Campagne de collecte 15 septembre 2024 – 1 octobre 2024
C'est quoi, la collecte de fonds?
recherche de livres
livres
recherche d'articles
articles
Campagne de collecte:
17.4% pourcents atteints
S'identifier
S'identifier
les utilisateurs autorisés sont disponibles :
recommandations personnelles
Telegram bot
historique de téléchargement
envoyer par courrier électronique ou Kindle
gestion des listes de livres
sauvegarder dans mes Favoris
Personnel
Requêtes de livres
Recherche
Revues
La participation
Faire un don
Litera Library
Faire un don de livres papier
Ajouter des livres papier
Ouvrir LITERA Point
Volume 611
Main
MRS Proceedings
Volume 611
MRS Proceedings
Volume 611
1
Molybdenum as a Gate Electrode for Deep Sub-Micron CMOS Technology
Ranade, Pushkar
,
Yeo, Yee-Chia
,
Lu, Qiang
,
Takeuchi, Hideki
,
King, Tsu-Jae
,
Hu, Chenming
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 315 KB
Vos balises:
english, 2000
2
Silicidation of Titanium-Rich Titanium Boride Deposited by Co-Sputtering on Si (100)
Sade, G.
,
Pelleg, J.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 844 KB
Vos balises:
english, 2000
3
The Structure of Plasma-Deposited and Annealed Pseudo-Binary ZrO2-SiO2 Alloys
Rayner, G.
,
Therrien, R.
,
Lucovsky, G.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 245 KB
Vos balises:
english, 2000
4
In situ and Ex situ Measurements of Stress Evolution in the Cobalt-Silicon System
Lucadamo, G.
,
Lavoie, C.
,
Cabral, C.
,
Carruthers, R. A.
,
Harper, J.M.E.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 180 KB
Vos balises:
english, 2000
5
Investigation on C54 nucleation and growth by micro-Raman imaging
Privitera, Stefania
,
Meinardi, Francesco
,
Quilici, Simona
,
Via, Francesco La
,
Spinella, Corrado
,
Grimaldi, Maria Grazia
,
Rimini, Emanuele
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 104 KB
Vos balises:
english, 2000
6
Physical and Electrical Properties of Yttrium Silicate Thin Films
Chambers, James J.
,
Parsons, Gregory N.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 205 KB
Vos balises:
english, 2000
7
Electrical Characteristics of TaOxNy for High-k MOS Gate Dielectric Applications
Im, Kiju
,
Jung, Hyungsuk
,
Jeon, Sanghun
,
Yang, Dooyoung
,
Hwang, Hyunsang
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 77 KB
Vos balises:
english, 2000
8
Epitaxial CoSi2 formation by a Cr or Mo interlayer
Detavernier, C.
,
Van Meirhaeghe, R.L.
,
Cardon, F.
,
Maex, K.
,
Brijs, B.
,
Vandervorst, W.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 159 KB
Vos balises:
english, 2000
9
In-situ Growth and Growth Kinetics of Epitaxial (100) CoSi2 Layer on (100) Si by Reactive Chemical Vapor Deposition
Rhee, Hwa Sung
,
Lee, Heui Seung
,
Park, Jong Ho
,
Ahn, Byung Tae
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 643 KB
Vos balises:
english, 2000
10
Amorphous Mixed TiO2 and SiO2 Films on Si(100) by Chemical Vapor Deposition
Smith, Ryan C.
,
Taylor, Charles J.
,
Roberts, Jeffrey
,
Hoilien, Noel
,
Campbell, Stephen A.
,
Gladfelter, Wayne L.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 50 KB
Vos balises:
english, 2000
11
Zr Oxide Based Gate Dielectrics with Equivalent SiO2 Thickness of Less than 1.0 nm and Device Integration with Pt Gate Electrode
Ma, Yanjun
,
Ono, Yoshi
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 65 KB
Vos balises:
english, 2000
12
Structural and Chemical Characterization of Tungsten Gate Stack for 1 Gb Dram
Gluschenkov, O.
,
Benedict, J.
,
Clevenger, L.A.
,
DeHaven, P.
,
Dziobkowski, C.
,
Faltermeier, J.
,
Lin, C.
,
McStay, I.
,
Wong, K.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 323 KB
Vos balises:
english, 2000
13
A Closer “Look” at Modern Gate Oxides
Baumann, Frieder H.
,
Chang, C.-P.
,
Grazul, John L.
,
Kamgar, Avid
,
Liu, C. T.
,
Muller, David A.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 4.73 MB
Vos balises:
english, 2000
14
Low-Oxygen Nitride Layers Produced by UHV Ammonia Nitridation of Silicon
Shriver, Mark A.
,
Higman, T.K.
,
Campbell, S.A.
,
Taylor, Charles J.
,
Roberts, Jeffrey
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 65 KB
Vos balises:
english, 2000
15
Low Temperature Nitridatio of SiO2 Films using a Catalytic-CVD System
Izumi, Akira
,
Sato, Hidekazu
,
Matsumura, Hideki
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 450 KB
Vos balises:
english, 2000
16
Integration Challenges for Advanced Salicide Processes and their Impact on CMOS Device Performance
Wieczorek, K.
,
Horstmann, M.
,
Engelmann, H.-J.
,
Dittmar, K.
,
Blum, W.
,
Sultan, A.
,
Besser, P.
,
Frenkel, A.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 1.98 MB
Vos balises:
english, 2000
17
Development of a Post-Spacer Etch Clean to Improve Silicide Formation
Yeh, Edward K.
,
Sengupta, Samit S.
,
Gabriel, Calvin T.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 57 KB
Vos balises:
english, 2000
18
A Two-Step Spacer Etch for High-Aspect-Ratio Gate Stack Process
Yu, Chien
,
Wise, Rich
,
Domenicucci, Anthony
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 141 KB
Vos balises:
english, 2000
19
Formation and Electrical Transport Properties of Nickel Silicide Synthesized by Metal Vapor Vacuum Arc Ion Implantation
Zhang, X. W.
,
Wong, S. P.
,
Cheung, W. Y.
,
Zhang, F.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 92 KB
Vos balises:
english, 2000
20
The Physical and Electrical Properties of Polycrystalline Si1−xGex as a Gate Electrode Material for ULSI CMOS Structures
Kang, Sung-Kwan
,
Ko, Dae-Hong
,
Ahn, Tae-Hang
,
Joo, Moon-Sik
,
Yeo, In-Seok
,
Whoang, Sung-Jin
,
Yang, Doo-Young
,
Whang, Chul-Joo
,
Lee, Hoo-Jeong
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 126 KB
Vos balises:
english, 2000
21
Effect of a thin Ta layer on the C49-C54 transition.
Via, F. La
,
Mammoliti, F.
,
Grimaldi, M.G.
,
Quilici, S.
,
Meinardi, F.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 141 KB
Vos balises:
english, 2000
22
Thin Ni-Silicides for Low Resistance Contacts and Growth of Thin Crystalline Si Layers
Guliants, Elena A.
,
Anderson, Wayne A.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 559 KB
Vos balises:
english, 2000
23
Remote Plasma Nitridation of In-Situ Steam Generated (ISSG) Oxide
Al-Shareef, H.N.
,
Karamcheti, A.
,
Luo, T.Y.
,
Brown, G.A.
,
Watt, V.H.C.
,
Jackson, M.D.
,
Huff, H.R.
,
Jallepally, R.
,
Noble, D.
,
Tam, N.
,
Miner, G.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 1.45 MB
Vos balises:
english, 2000
24
A Low-Cost BiCMOS Process with Metal Gates
van Zeijl, H.W.
,
Nanver, L.K.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 96 KB
Vos balises:
english, 2000
25
Effects of Nitridation by N2O or No on the Electrical Properties of Thin Gate or Tunnel Oxides
Gerardi, C.
,
Rossetti, T.
,
Melanotte, M.
,
Lombardo, S.
,
Crupi, I.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 140 KB
Vos balises:
english, 2000
26
Hot Wall Isothermal RTP for Gate Oxide Growth and Nitridation
Laser, Allan
,
Ratliff, Christopher
,
Yao, Jack
,
Bailey, Jeff
,
Passefort, Jean-Claude
,
Vaughan, Eric
,
Page, Larry
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 82 KB
Vos balises:
english, 2000
27
Controlling CoSi2 nucleation : the effect of entropy of mixing
Detavernier, C.
,
Van Meirhaeghe, R.L.
,
Maex, K.
,
Cardon, F.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 183 KB
Vos balises:
english, 2000
28
On the Template Mechanism of Enhanced C54-TiSi2 Formation
Kappius, L.
,
Tung, R. T.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 4.00 MB
Vos balises:
english, 2000
29
Silicide engineering: influence of alloying elements on CoSi2 nucleation
Detavernier, C.
,
Van Meirhaeghe, R.L.
,
Maex, K.
,
Cardon, F.
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 95 KB
Vos balises:
english, 2000
30
Study of CoSix Spike Leakage for 0.1-um CMOS
Goto, Ken-ichi
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 987 KB
Vos balises:
english, 2000
31
Modeling of Self-Aligned Silicidation in 2D and 3D: Growth Suppression by Oxygen Diffusion
Moroz, Victor
,
Okada, Takako
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 116 KB
Vos balises:
english, 2000
32
Ultra-thin Gate Oxide Prepared by Nitridation in ND3 for MOS Device Applications
Kwon, Hyungshin
,
Hwang, Hyunsang
Journal:
MRS Proceedings
Année:
2000
Langue:
english
Fichier:
PDF, 104 KB
Vos balises:
english, 2000
1
Suivez
ce lien
ou recherchez le bot "@BotFather" sur Telegram
2
Envoyer la commande /newbot
3
Entrez un nom pour votre bot
4
Spécifiez le nom d'utilisateur pour le bot
5
Copier le dernier message de BotFather et le coller ici
×
×