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Volume 18; Issue 4-6
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Chemical Vapor Deposition
Volume 18; Issue 4-6
Chemical Vapor Deposition
Volume 18; Issue 4-6
1
Silicon-Included Graphite Films Prepared by Thermally Induced CVD with a (C6F5)4Si Precursor
Vladimir V. Bakovets
,
Ludmila N. Zelenina
,
Tatiana M. Levashova
,
Evgeniy M. Uskov
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 317 KB
Vos balises:
english, 2012
2
Non-thermal Effect of Atmospheric-Pressure RF Cold Plasma on Photocatalytic Activity of As-deposited TiO2 Film
Da-Lei Chang
,
Xiao-Song Li
,
Tian-Liang Zhao
,
Jin-Hua Yang
,
Ai-Min Zhu
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 629 KB
Vos balises:
english, 2012
3
Zirconocene Alkoxides, Promising Precursors for MOCVD of Zirconium Dioxide Thin Films
Andrea Sartori
,
Naida El Habra
,
Chiara De Zorzi
,
Sergio Sitran
,
Maurizio Casarin
,
Gianni Cavinato
,
Cinzia Sada
,
Rosalba Gerbasi
,
Gilberto Rossetto
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 364 KB
Vos balises:
english, 2012
4
The Effect of Boron Doping Level on The Morphology and Structure of Ultra/Nanocrystalline Diamond Films
Fernando A. Souza
,
Adriana F. Azevedo
,
Carlos Giles
,
Eduardo Saito
,
Maurício R. Baldan
,
Neidenêi G. Ferreira
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 691 KB
Vos balises:
english, 2012
5
Atomic Layer Deposition of Copper Oxide using Copper(II) Acetylacetonate and Ozone
Mari Endresen Alnes
,
Edouard Monakhov
,
Helmer Fjellvåg
,
Ola Nilsen
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 401 KB
Vos balises:
english, 2012
6
The Effect of Solvent on the Phase of Titanium Dioxide Deposited by Aerosol-assisted CVD
Cynthia Edusi
,
Gopinathan Sankar
,
Ivan P. Parkin
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 640 KB
Vos balises:
english, 2012
7
Production of Predominantly Anatase Thin Films on Various Grades of Steel and Other Metallic Substrates From TiCl4 and Ethyl Acetate by Atmospheric Pressure CVD
Alison J. Cross
,
Charles W. Dunnill
,
Ivan P. Parkin
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 633 KB
Vos balises:
english, 2012
8
The Preparation of Titanium Dioxide Gas Sensors by the Electric Field Assisted Aerosol CVD Reaction of Titanium Isopropoxide in Toluene
Naitik Panjawi
,
Anupriya Naik
,
Michael E. A. Warwick
,
Geoffrey Hyett
,
Russell Binions
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 434 KB
Vos balises:
english, 2012
9
Enhancement of Photoelectrochemical Performance of AACVD-produced TiO2 Electrodes by Microwave Irradiation while Preserving the Nanostructure
Asif Ali Tahir
,
T. A. Nirmal Peiris
,
K. G. Upul Wijayantha
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 505 KB
Vos balises:
english, 2012
10
Antimicrobial Activity Against Hospital-related Pathogens of Dual Layer CuO/TiO2 Coatings Prepared by CVD
Howard A. Foster
,
David W. Sheel
,
Philip Evans
,
Paul Sheel
,
Sajnu Varghese
,
Souad O. Elfakhri
,
John L. Hodgkinson
,
Heather M. Yates
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 407 KB
Vos balises:
english, 2012
11
CVD Production of Doped Titanium Dioxide Thin Films
Charles W. Dunnill
,
Andreas Kafizas
,
Ivan P. Parkin
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 700 KB
Vos balises:
english, 2012
12
Special Section on the CVD of TiO2 and Doped TiO2 Films
Ivan P. Parkin
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 44 KB
Vos balises:
english, 2012
13
Structure and Dielectric Study of Poly(α,α difluoro-p-xylylene) Thin Films: Highlight of the Substrate Temperature Effect
Abdelkader Kahouli
,
Emmanuel André
,
Alain Sylvestre
,
Sébastien Pairis
,
Fathi Jomni
,
Béchir Yangui
,
Jean-Luc Garden
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 244 KB
Vos balises:
english, 2012
14
Photocatalytic and Photoelectrocatalytic Degradation of the Explosive RDX by TiO2 Thin Films Prepared by CVD and Anodic Oxidation of Ti
Fang Tian
,
Michael L. Hitchman
,
Sarkis H. Shamlian
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 736 KB
Vos balises:
english, 2012
15
Contents: (Chem. Vap. Deposition 4–5–6/2012)
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 252 KB
Vos balises:
english, 2012
16
Cover image from Jones and co-workers (Chem Vap. Deposition 4–5–6/2012)
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Fichier:
PDF, 172 KB
Vos balises:
2012
17
Masthead: (Chem. Vap. Deposition 4–5–6/2012)
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2012
Langue:
english
Fichier:
PDF, 33 KB
Vos balises:
english, 2012
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