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Volume 11; Issue 4
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Chemical Vapor Deposition
Volume 11; Issue 4
Chemical Vapor Deposition
Volume 11; Issue 4
1
Platinum Nanoelectrodes Embedded in an Insulating Alumina Matrix: An Innovative Approach
G. A. Battiston
,
S. Daniele
,
P. Dluzewski
,
A. Gambirasi
,
R. Gerbasi
,
A. Rodriguez
,
A. Szczepanska
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 306 KB
Vos balises:
english, 2005
2
Adhesion of Sputter-Deposited Ta to Porous-Methyl Silsesquioxane Pore Sealed with Molecular Caulk
D.-L. Bae
,
C. Jezewski
,
T. S. Cale
,
J. J. Senkevich
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 262 KB
Vos balises:
english, 2005
3
Liquid-Delivery MOCVD of Strontium Bismuth Tantalate Thin Films Using Sr[Ta(OC2H5)5(OCH2CH2OCH3)]2 and Liquid Bi(CH2CH=CH2)3 as Precursors
J.-Y. Hyeon
,
M. Lisker
,
M. Silinskas
,
E. Burte
,
F. T. Edelmann
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 359 KB
Vos balises:
english, 2005
4
CVD with Tri-nbutylphosphine Silver(I) Complexes: Mass Spectrometric Investigations and Depositions
T. Haase
,
K. Kohse-Höinghaus
,
N. Bahlawane
,
P. Djiele
,
A. Jakob
,
H. Lang
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 589 KB
Vos balises:
english, 2005
5
Growth Characteristics of Carbon Nanotube Arrays Synthesized by ICP-CVD using Anodic Aluminum Oxide on Silicon as a Nanotemplate
J.-H. Yen
,
I.-C. Leu
,
M.-T. Wu
,
C.-C. Lin
,
M.-H. Hon
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 501 KB
Vos balises:
english, 2005
6
Deposition of Silver Thin Films Using the Pyrazolate Complex [Ag(3,5-(CF3)2C3HN2)]3
Y. Chi
,
E. Lay
,
T.-Y. Chou
,
Y.-H. Song
,
A. J. Carty
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 553 KB
Vos balises:
english, 2005
7
Contents: Chem. Vap. Deposition 4/2005
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 185 KB
Vos balises:
english, 2005
8
Author Index and Subject Index Chem. Vap. Deposition 4/2005
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2005
Langue:
english
Fichier:
PDF, 66 KB
Vos balises:
english, 2005
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