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Volume 10; Issue 5
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Chemical Vapor Deposition
Volume 10; Issue 5
Chemical Vapor Deposition
Volume 10; Issue 5
1
YSZ Thin Films Deposited on NiO-CSZ Anodes by Pulsed Injection MOCVD for Intermediate Temperature-SOFC Applications
G. Garcia
,
R.I. Merino
,
V.M. Orera
,
A. Larrea
,
J.I. Peña
,
M.A. Laguna-Bercero
,
J.A. Pardo
,
J. Santiso
,
A. Figueras
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 390 KB
Vos balises:
english, 2004
2
Atmospheric-Pressure CVD of Vanadium Phosphide Thin Films from Reaction of Tetrakisdimethyl-amidovanadium and Cyclohexylphosphine
C.S. Blackman
,
C.J. Carmalt
,
S.A. O'Neill
,
I.P. Parkin
,
K.C. Molloy
,
L. Apostolico
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 223 KB
Vos balises:
english, 2004
3
Selective Deposition of Ultrathin Poly(p-xylene) Films on Dielectrics Versus Copper Surfaces
J.J. Senkevich
,
C.J. Wiegand
,
G.-R. Yang
,
T.-M. Lu
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 257 KB
Vos balises:
english, 2004
4
A Nanothermodynamic Analysis of Cubic Boron Nitride Nucleation upon Chemical Vapor Deposition
C.X. Wang
,
Q.X. Liu
,
G.W. Yang
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 279 KB
Vos balises:
english, 2004
5
Innovative Approaches to Oxide Nanosystems: CeO2-ZrO2 Nanocomposites by a Combined PE-CVD/Sol–Gel Route
L. Armelao
,
D. Barreca
,
G. Bottaro
,
A. Gasparotto
,
E. Tondello
,
M. Ferroni
,
S. Polizzi
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 697 KB
Vos balises:
english, 2004
6
Vapor Phase Synthesis of Multicomponent Si-N-Ti Powders
G. Ziegenbalg
,
U. Šingliar
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 290 KB
Vos balises:
english, 2004
7
Low-Temperature Growth of Germanium Quantum Dots on Silicon Oxide by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition
J. Shieh
,
T.S. Ko
,
H.L. Chen
,
B.T. Dai
,
T.C. Chu
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 430 KB
Vos balises:
english, 2004
8
Growth of Hafnium Aluminate Thin Films by Liquid Injection MOCVD Using Alkoxide Precursors
P.A. Marshall
,
R.J. Potter
,
A.C. Jones
,
P.R. Chalker
,
S. Taylor
,
G.W. Critchlow
,
S.A. Rushworth
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 322 KB
Vos balises:
english, 2004
9
Contents: Chem. Vap. Deposition 5/2005
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 255 KB
Vos balises:
english, 2004
10
Author Index and Subject Index Chem. Vap. Deposition 5/2005
Journal:
Chemical Vapor Deposition
Année:
2004
Langue:
english
Fichier:
PDF, 69 KB
Vos balises:
english, 2004
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