Anomalous Transient Diffusion of Ion Implanted Boron during...

MRS Proceedings 1989 / 1 Vol. 146

Anomalous Transient Diffusion of Ion Implanted Boron during Rapid Thermal Annealing

Kim, Y. M., Lo, G. Q., Kwong, D. L., Tseng, H. H., Hance, R.

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Volume:

146

Langue:

english

Journal:

MRS Proceedings

DOI:

10.1557/proc-146-391

Date:

January, 1989

Fichier:

PDF, 1.57 MB

english, 1989

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