Cl2-based dry etching of the AlGaInN system in inductively...

Cl2-based dry etching of the AlGaInN system in inductively coupled plasmas

Hyun Cho, C.B Vartuli, C.R Abernathy, S.M Donovan, S.J Pearton, R.J Shul, J Han
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Volume:
42
Année:
1998
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1016/s0038-1101(98)00225-1
Fichier:
PDF, 590 KB
english, 1998
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