A Water-free Low Temperature Process for Atomic Layer...

Chemical Vapor Deposition 2013 / 06 Vol. 19; Iss. 4-6

A Water-free Low Temperature Process for Atomic Layer Deposition of Al 2 O 3 Films

Guo, Jiao-Jiao, Li, Ming-Da, Sun, Qing-Qing, Yang, Wen, Zhou, Peng, Ding, Shi-Jin, Zhang, David Wei
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Volume:
19
Langue:
english
Journal:
Chemical Vapor Deposition
DOI:
10.1002/cvde.201207032
Date:
June, 2013
Fichier:
PDF, 372 KB
english, 2013
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