High silicon etch rates by hot filament generated atomic...

Journal of Physics D Applied Physics 1997 / 04 Vol. 30; Iss. 8

High silicon etch rates by hot filament generated atomic hydrogen

Wanka, H N, Schubert, M B
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Volume:
30
Langue:
english
Journal:
Journal of Physics D: Applied Physics
DOI:
10.1088/0022-3727/30/8/002
Date:
April, 1997
Fichier:
PDF, 83 KB
english, 1997
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