A comparative study of silicon deposition from SiCl4 in cold plasma using argon, H2 or Ar+H2: R P Manory et al,Thin Solid Films,156, 1988, 79–92
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Volume:
39
Année:
1989
Langue:
english
DOI:
10.1016/0042-207x(89)90807-5
Fichier:
PDF, 154 KB
Vos balises:
english, 1989
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