Influence of deposition parameters on the properties of boron-doped amorphous silicon-carbide films: Swati Ray et al,J appl Phys,62, 1987, 3917–3921
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Volume:
39
Année:
1989
Langue:
english
DOI:
10.1016/0042-207x(89)90803-8
Fichier:
PDF, 154 KB
Vos balises:
english, 1989
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