Effect of resputtering on composition of WSix films deposited by multilayer sputtering: R Bruce et al,J Vac Sci Technol,A6, 1988, 1642–1645
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Volume:
39
Année:
1989
Langue:
english
DOI:
10.1016/0042-207x(89)90771-9
Fichier:
PDF, 150 KB
Vos balises:
english, 1989
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