On the properties of physically vapour-deposited TiAlVN coatings: O Knotek et al,Thin Solid Films,153, 1987, 83–90
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Volume:
39
Année:
1989
Langue:
english
DOI:
10.1016/0042-207x(89)90742-2
Fichier:
PDF, 157 KB
Vos balises:
english, 1989
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