Growth by Liquid-Injection MOCVD and Properties of HfO2...

Chemical Vapor Deposition 2006 Vol. 12; Iss. 2-3

Growth by Liquid-Injection MOCVD and Properties of HfO2 Films for Microelectronic Applications

C. Dubourdieu, E. Rauwel, C. Millon, P. Chaudouët, F. Ducroquet, N. Rochat, S. Rushworth, V. Cosnier
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Volume:
12
Année:
2006
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1002/cvde.200506397
Fichier:
PDF, 516 KB
english, 2006
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