Deposition of Thin Films of SiOxCyH in a Surfatron...

Deposition of Thin Films of SiOxCyH in a Surfatron Microwave Plasma Reactor with Hexamethyldisiloxane as Precursor

A. Walkiewicz-Pietrzykowska, J. Cotrino, A. R. González-Elipe
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Volume:
11
Année:
2005
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1002/cvde.200506374
Fichier:
PDF, 415 KB
english, 2005
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