Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at...

Thin Solid Films 2009 Vol. 517; Iss. 12

Deposition of silicon nitride thin films by hot-wire CVD at 100 °C and 250 °C

P. Alpuim, L.M. Gonçalves, E.S. Marins, T.M.R. Viseu, S. Ferdov, J.E. Bourée
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Volume:
517
Année:
2009
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1016/j.tsf.2009.01.077
Fichier:
PDF, 509 KB
english, 2009
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