Ge wire MOSFETs fabricated by three-dimensional Ge...

Thin Solid Films 2008 Vol. 517; Iss. 1

Ge wire MOSFETs fabricated by three-dimensional Ge condensation technique

T. Irisawa, T. Numata, N. Hirashita, Y. Moriyama, S. Nakaharai, T. Tezuka, N. Sugiyama, S. Takagi
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Volume:
517
Année:
2008
Langue:
english
Pages:
3
DOI:
10.1016/j.tsf.2008.08.054
Fichier:
PDF, 430 KB
english, 2008
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