Application of a mechanistic UV/hydrogen peroxide model at...

Chemical Engineering Journal 2011 Vol. 171; Iss. 1

Application of a mechanistic UV/hydrogen peroxide model at full-scale: Sensitivity analysis, calibration and performance evaluation

Wim T.M. Audenaert, Yoshi Vermeersch, Stijn W.H. Van Hulle, Pascal Dejans, Ann Dumoulin, Ingmar Nopens
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Volume:
171
Année:
2011
Langue:
english
Pages:
14
DOI:
10.1016/j.cej.2011.03.071
Fichier:
PDF, 714 KB
english, 2011
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