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Atomic-scale silicidation of low resistivity Ni-Si system...

Applied Surface Science 2021 / 02 Vol. 538

Atomic-scale silicidation of low resistivity Ni-Si system through in-situ TEM investigation

Hou, An-Yuan, Ting, Yi-Hsin, Tai, Kuo-Lun, Huang, Chih-Yang, Lu, Kuo-Chang, Wu, Wen-Wei
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Volume:
538
Journal:
Applied Surface Science
DOI:
10.1016/j.apsusc.2020.148129
Date:
February, 2021
Fichier:
PDF, 9.79 MB
2021
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