P‐232: Laser Assisted Plasma Enhanced Chemical Vapor...

SID Symposium Digest of Technical Papers 2020 / 08 Vol. 51; Iss. 1

P‐232: Laser Assisted Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition for Damage‐Resistive and Reliable Thin Film Encapsulation of Organic Light Emitting Diodes

An, Kunsik, Lee, Ho-Nyun, Cho, Kwan Hyun, Lee, Seung‐Woo, Choi, Sung‐Hwan, Hwang, David J., Kang, Kyung-Tae
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Volume:
51
Journal:
SID Symposium Digest of Technical Papers
DOI:
10.1002/sdtp.14192
Date:
August, 2020
Fichier:
PDF, 903 KB
2020
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