Temperature Uniformity Optimization for a silicon implant...

Journal of Electronic Materials 1999 Vol. 28; Iss. 12

Temperature Uniformity Optimization for a silicon implant anneal into GaAs usingOpus™simulation software

Zaid Farukhi, Helmut Francz, Steven Marcus, Andreas Tillmann, Juergen Niess, Martin Drechsler
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Volume:
28
Année:
1999
Langue:
english
Pages:
6
DOI:
10.1007/s11664-999-0124-9
Fichier:
PDF, 238 KB
english, 1999
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