Cathodoluminescence study of micro-crack-induced stress...

Journal of Electronic Materials 2006 Vol. 35; Iss. 12

Cathodoluminescence study of micro-crack-induced stress relief for AlN films on Si(111)

G. Sarusi, O. Moshe, S. Khatsevich, D. H. Rich, J. Salzman, B. Meyler, M. Shandalov, Y. Golan
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Volume:
35
Année:
2006
Langue:
english
Pages:
1
DOI:
10.1007/s11664-006-0328-1
Fichier:
PDF, 156 KB
english, 2006
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