Electron field emission from nano-crystalline Si films...

Chinese Science Bulletin 2006 / 03 Vol. 51; Iss. 5

Electron field emission from nano-crystalline Si films deposited by inductively coupled plasma CVD at room temperature

Deyan He, Xiaoqiang Wang, Qiang Chen, Junshuai Li, Min Yin, A. V. Karabutov, A. G. Kazanskii
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Volume:
51
Langue:
english
Pages:
5
DOI:
10.1007/s11434-005-0510-5
Date:
March, 2006
Fichier:
PDF, 7.67 MB
english, 2006
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