High-intensity ion implantation - a technique to form...

Russian Physics Journal 2004 Vol. 47; Iss. 9

High-intensity ion implantation - a technique to form finely dispersed intermetallic compounds in surface layers of metals

Yu. P. Sharkeev, A. I. Ryabchikov, E. V. Kozlov, I. A. Kurzina, I. B. Stepanov, I. A. Bozhko, M. P. Kalashnikov, S. V. Fortuna, D. O. Sivin
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Volume:
47
Année:
2004
Langue:
english
Pages:
10
DOI:
10.1007/s11182-004-0004-y
Fichier:
PDF, 631 KB
english, 2004
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