Hybrid Overlay Modeling for Field-by-Field Error Correction...

IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 2020 / 2 Vol. 33; Iss. 1

Hybrid Overlay Modeling for Field-by-Field Error Correction in the Photolithography Process

Kim, Sang Jin, Yoon, Hyui Geon, Lee, Ki Bum, Kim, Chang Ouk, Kim, Sung Jae
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Volume:
33
Journal:
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
DOI:
10.1109/TSM.2019.2957508
Date:
February, 2020
Fichier:
PDF, 6.71 MB
2020
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