Ni/4H-SiC interaction and silicide formation under excimer...

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Materialia 2019 / 11

Ni/4H-SiC interaction and silicide formation under excimer laser annealing for ohmic contact

Badalà, Paolo, Rascunà, Simone, Cafra, Brunella, Bassi, Anna, Smecca, Emanuele, Zimbone, Massimo, Bongiorno, Corrado, Calabretta, Cristiano, La Via, Francesco, Roccaforte, Fabrizio, Saggio, Mario, Fra
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Langue:
english
Journal:
Materialia
DOI:
10.1016/j.mtla.2019.100528
Date:
November, 2019
Fichier:
PDF, 1.81 MB
english, 2019
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