Neural network-based model of photoresist reflow

Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 2019 / 11 Vol. 37; Iss. 6

Neural network-based model of photoresist reflow

Chia, Charmaine, Martis, Joel, Jeffrey, Stefanie S., Howe, Roger T.
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Volume:
37
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology B
DOI:
10.1116/1.5116857
Date:
November, 2019
Fichier:
PDF, 1.87 MB
english, 2019
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