Properties of ITO films prepared by reactive magnetron...

Microchimica Acta 2006 / 11 Vol. 156; Iss. 1-2

Properties of ITO films prepared by reactive magnetron sputtering

Ronny Kleinhempel, Gunar Kaune, Matthias Herrmann, Hartmut Kupfer, Walter Hoyer, Frank Richter
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Volume:
156
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1007/s00604-006-0591-0
Date:
November, 2006
Fichier:
PDF, 240 KB
english, 2006
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