Optimizing reactive ion etching to remove sub-surface...

Journal of Applied Physics 2019 / 06 Vol. 125; Iss. 24

Optimizing reactive ion etching to remove sub-surface polishing damage on diamond

Hicks, Marie-Laure, Pakpour-Tabrizi, Alexander C., Zuerbig, Verena, Kirste, Lutz, Nebel, Christoph, Jackman, Richard B.
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Volume:
125
Journal:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.5094751
Date:
June, 2019
Fichier:
PDF, 1.43 MB
2019
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