The study of Plasma Induced Damage on 65nm Silicon on Thin...

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IEEE Journal of the Electron Devices Society 2019

The study of Plasma Induced Damage on 65nm Silicon on Thin BOX transistor

Yamamoto, Yoshiki, Segi, Kazuhiko, Tsuda, Shibun, Makiyama, Hideki, Hasegawa, Takumi, Maekawa, Keiichi, Shinkawata, Hiroki, Yamashita, Tomohiro
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Année:
2019
Journal:
IEEE Journal of the Electron Devices Society
DOI:
10.1109/JEDS.2019.2917893
Fichier:
PDF, 301 KB
2019
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