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Behavior of Si-Si Bond Oxidation by Electron Beam...

Journal of Photopolymer Science and Technology 2018 / 6 Vol. 31; Iss. 4

Behavior of Si-Si Bond Oxidation by Electron Beam Lithography

Noda, Kunihiro, Seshimo, Takehiro, Suzuki, Issei, Misumi, Kouichi, Shiota, Dai, Kikuchi, Shun, Furutani, Masahiro, Arimitsu, Koji
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Volume:
31
Langue:
english
Journal:
Journal of Photopolymer Science and Technology
DOI:
10.2494/photopolymer.31.581
Date:
June, 2018
Fichier:
PDF, 1.31 MB
english, 2018
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