Plasma passivation of near-interface oxide traps and...

Journal of Applied Physics 2019 / 05 Vol. 125; Iss. 18

Plasma passivation of near-interface oxide traps and voltage stability in SiC MOS capacitors

Sun, Yunong, Yang, Chao, Yin, Zhipeng, Qin, Fuwen, Wang, Dejun
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Volume:
125
Langue:
english
Journal:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.5084759
Date:
May, 2019
Fichier:
PDF, 5.03 MB
english, 2019
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