Influence of p- and n-type doping gases on nanoparticle...

Journal of Applied Physics 2019 / 04 Vol. 125; Iss. 16

Influence of p- and n-type doping gases on nanoparticle formation in SiH 4 /H 2 radiofrequency plasma discharges used for polymorphous silicon thin film deposition

Kharchenko, A. V., Ouaras, K., Suendo, V., Ebothé, J., Roca i Cabarrocas, P.
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Volume:
125
Langue:
english
Journal:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.5090769
Date:
April, 2019
Fichier:
PDF, 1.73 MB
english, 2019
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