Thermodynamic and kinetic stability with respect to hole...

Applied Physics A: Materials Science & Processing 2003 / 01 Vol. 76; Iss. 1

Thermodynamic and kinetic stability with respect to hole trapping. of silanic bonds at the Si–SiO2interface

G.F. Cerofolini
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Volume:
76
Langue:
english
Pages:
4
DOI:
10.1007/s003390201297
Date:
January, 2003
Fichier:
PDF, 81 KB
english, 2003
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