Vacuum ultra violet absorption spectroscopy of 193 nm...

Applied Physics A: Materials Science & Processing 2011 / 11 Vol. 105; Iss. 2

Vacuum ultra violet absorption spectroscopy of 193 nm photoresists

M. Fouchier, E. Pargon, L. Azarnouche, K. Menguelti, O. Joubert, T. Cardolaccia, Y. C. Bae
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Volume:
105
Langue:
english
Pages:
7
DOI:
10.1007/s00339-011-6553-3
Date:
November, 2011
Fichier:
PDF, 844 KB
english, 2011
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