Photoanodic pyramid texturization of n-Ge (100) in HCl...

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Photoanodic pyramid texturization of n-Ge (100) in HCl solution: An unexpected anisotropy in the surface chemistry of etching

Abrenica, Graniel Harne Abelido, Lebedev, Mikhail V., Le, Hy, Hajduk, Andreas, Fingerle, Mathias, Mayer, Thomas, De Gendt, Stefan, van Dorp, Dennis
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Année:
2019
Langue:
english
Journal:
Journal of Materials Chemistry C
DOI:
10.1039/c8tc06091f
Fichier:
PDF, 1.39 MB
english, 2019
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