Close-Spaced Vapor Transport Reactor for III-V Growth Using...

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Journal of Crystal Growth 2018 / 10

Close-Spaced Vapor Transport Reactor for III-V Growth Using HCl as the Transport Agent

Funch, Christopher J., Greenaway, Ann L., Boucher, Jason W., Weiss, Robert, Welsh, Alex, Aloni, Shaul, Boettcher, Shannon W.
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Langue:
english
Journal:
Journal of Crystal Growth
DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2018.10.031
Date:
October, 2018
Fichier:
PDF, 1.26 MB
english, 2018
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