Block copolymer selectivity: A new dry etch approach for...

Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 2018 / 07 Vol. 36; Iss. 4

Block copolymer selectivity: A new dry etch approach for cylindrical applications

Sarrazin, Aurelien, Posseme, Nicolas, Pimenta-Barros, Patricia, Barnola, Sebastien, Gharbi, Ahmed, Argoud, Maxime, Tiron, Raluca, Cardinaud, Christophe
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Volume:
36
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology B
DOI:
10.1116/1.5034133
Date:
July, 2018
Fichier:
PDF, 1.98 MB
english, 2018
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