Atomic layer deposition of CeO 2...

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 2018 / 09 Vol. 36; Iss. 5

Atomic layer deposition of CeO 2 using a heteroleptic cyclopentadienyl-amidinate precursor

Golalikhani, Maryam, James, Trevor, Van Buskirk, Peter, Noh, Wontae, Lee, Jooho, Wang, Ziyun, Roeder, Jeffrey F.
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Volume:
36
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology A
DOI:
10.1116/1.5026405
Date:
September, 2018
Fichier:
PDF, 2.37 MB
english, 2018
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