Nanometer-thick oxide films produced by electrochemical...

Russian Microelectronics 2000 / 05-06 Vol. 29; Iss. 3

Nanometer-thick oxide films produced by electrochemical anodizing of silicon

V. M. Mordvintsev, N. L. Murav’eva
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Volume:
29
Langue:
english
Pages:
11
DOI:
10.1007/bf02773256
Date:
May, 2000
Fichier:
PDF, 774 KB
english, 2000
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