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IEEE Transactions on Plasma Science 2018 / 2 Vol. 46; Iss. 2

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Han, X., Hu, A., Li, D., Xiao, S., Tian, B., Zang, Q., Zhao, J., Hsieh, C., Gong, X., Hu, L., Xu, G.
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Volume:
46
Langue:
english
Journal:
IEEE Transactions on Plasma Science
DOI:
10.1109/TPS.2018.2791618
Date:
February, 2018
Fichier:
PDF, 799 KB
english, 2018
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