Thermal adsorption-enhanced atomic layer etching of...

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 2018 / 01 Vol. 36; Iss. 1

Thermal adsorption-enhanced atomic layer etching of Si 3 N 4

Kim, Woo-Hee, Sung, Dougyong, Oh, Sejin, Woo, Jehun, Lim, Seungkyu, Lee, Hyunju, Bent, Stacey F.
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Volume:
36
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films
DOI:
10.1116/1.5003271
Date:
January, 2018
Fichier:
PDF, 1.30 MB
english, 2018
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