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Normal and reverse defect annealing in ion implanted II-VI...

Journal of Applied Physics 2017 / 09 Vol. 122; Iss. 11

Normal and reverse defect annealing in ion implanted II-VI oxide semiconductors

Azarov, Alexander, Galeckas, Augustinas, Wendler, Elke, Ellingsen, Josef, Monakhov, Edouard, Svensson, Bengt G.
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Volume:
122
Langue:
english
Journal:
Journal of Applied Physics
DOI:
10.1063/1.4997847
Date:
September, 2017
Fichier:
PDF, 1.66 MB
english, 2017
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