Comparative study of resists and lithographic tools using...

Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 2016 / 11 Vol. 34; Iss. 6

Comparative study of resists and lithographic tools using the Lumped Parameter Model

Fallica, Roberto, Kirchner, Robert, Ekinci, Yasin, Mailly, Dominique
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Volume:
34
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
DOI:
10.1116/1.4967183
Date:
November, 2016
Fichier:
PDF, 939 KB
english, 2016
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