Interface state density engineering in Hf...

Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures 2016 / 01 Vol. 34; Iss. 1

Interface state density engineering in Hf 1-x Zr x O 2 /SiON/Si gate stack

Bhuyian, Md Nasir Uddin, Misra, Durgamadhab, Tapily, Kandabara, Clark, Robert D., Consiglio, Steven, Wajda, Cory S., Leusink, Gert J.
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Volume:
34
Langue:
english
Journal:
Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
DOI:
10.1116/1.4937916
Date:
January, 2016
Fichier:
PDF, 1.64 MB
english, 2016
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