Al2O3 thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapor...

Thin Solid Films 2017 / 2

Al2O3 thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition of dimethylaluminum isopropoxide

Ban, Wonjin, Kwon, Sungyool, Nam, Jaehyun, Yang, Jaeyoung, Jang, Seonhee, Jung, Donggeun

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Langue:

english

Journal:

Thin Solid Films

DOI:

10.1016/j.tsf.2017.02.007

Date:

February, 2017

Fichier:

PDF, 1.01 MB

english, 2017

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