Silicon etching using only Oxygen at high temperature: An...

Scientific Reports 2015 / 12 Vol. 5

Silicon etching using only Oxygen at high temperature: An alternative approach to Si micro-machining on 150 mm Si wafers

Chai, Jessica, Walker, Glenn, Wang, Li, Massoubre, David, Tan, Say Hwa, Chaik, Kien, Hold, Leonie, Iacopi, Alan
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Volume:
5
Langue:
english
Journal:
Scientific Reports
DOI:
10.1038/srep17811
Date:
December, 2015
Fichier:
PDF, 1.31 MB
english, 2015
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