Chemically amplified resists. III. The final phenolic...

Journal of Photopolymer Science and Technology 1993 Vol. 6; Iss. 1

Chemically amplified resists. III. The final phenolic product formation mechanism from t-BOC.

ICHIKAWA, RIEKO, TSUDA, MINORU, OIKAWA, SETSUKO
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Volume:
6
Année:
1993
Langue:
english
Journal:
Journal of Photopolymer Science and Technology
DOI:
10.2494/photopolymer.6.23
Fichier:
PDF, 167 KB
english, 1993
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