Novel Molecular Resist for EUV and Electron Beam...

Journal of Photopolymer Science and Technology 2015 Vol. 28; Iss. 4

Novel Molecular Resist for EUV and Electron Beam Lithography

Frommhold, Andreas, Yang, Dongxu, McClelland, Alexandra, Roth, John, Xue, Xiang, Rosamund, Mark C., Linfield, Edmund H., Robinson, Alex P. G.
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Volume:
28
Année:
2015
Langue:
english
Journal:
Journal of Photopolymer Science and Technology
DOI:
10.2494/photopolymer.28.537
Fichier:
PDF, 1.98 MB
english, 2015
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