Application of C60 to Photosensitive Diazo/PVA Resist

Journal of Photopolymer Science and Technology 2008 Vol. 21; Iss. 1

Application of C60 to Photosensitive Diazo/PVA Resist

Harada, Keiko, Taniai, Tetsuyuki, Nakada, Masahiro, Hamana, Hiroshi, Matsuda, Kiyomi, Takahara, Shigeru, Sugita, Kazuyuki
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Volume:
21
Année:
2008
Langue:
english
Journal:
Journal of Photopolymer Science and Technology
DOI:
10.2494/photopolymer.21.59
Fichier:
PDF, 424 KB
english, 2008
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