Fluid Simulation of Capacitively Coupled HBr/Ar Plasma for...

Plasma Chemistry and Plasma Processing 2016 / 9 Vol. 36; Iss. 5

Fluid Simulation of Capacitively Coupled HBr/Ar Plasma for Etching Applications

Gul, Banat, Rehman, Aman-ur
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Volume:
36
Langue:
english
Journal:
Plasma Chemistry and Plasma Processing
DOI:
10.1007/s11090-016-9726-1
Date:
September, 2016
Fichier:
PDF, 1.06 MB
english, 2016
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